Nonlinear LBO Crystal

Infrarotreflektoren und Fenstermaterial Silizium (si)

Silizium (si) wird durch Czochralski-Ziehtechniken (cz) gezüchtet und enthält etwas Sauerstoff, der eine Absorptionsbande bei 9 Mikrometern verursacht. Um dies zu vermeiden, kann das Material im Float-Zone-Verfahren (FZ) hergestellt werden.

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Optisches Silizium ist im Allgemeinen leicht dotiert (5 bis 40 Ohm cm), um eine bestmögliche Übertragung über 10 Mikrometer zu erreichen, und das Dotieren ist üblicherweise Bor (P-Typ) und Phosphor (N-Typ). Nach dem Dotieren hat Silizium ein weiteres Durchlassband: 30 bis 100 Mikrometer, das nur in sehr kompensiertem, nicht kompensiertem Material wirksam ist. CZ-Silizium wird üblicherweise als Trägermaterial für Infrarotreflektoren und -fenster im 1,5-8-Mikrometer-Bereich verwendet. Aufgrund der starken Absorptionsbande bei 9 Mikrometern ist es für CO2-Laser-Transmissionsanwendungen ungeeignet, wird jedoch wegen seiner hohen Wärmeleitfähigkeit und niedrigen Dichte häufig für Laserspiegel verwendet. Anwendung als Fenster, Linse in den 1,5 - 8 µm Bereichen; Spiegel für CO2-Laser- und Spektrometeranwendungen.


Physisch ein d optia l Eigenschaften:

Kristallklasse
Kubisch
Gitterparameter
a = 5,43 Å
Schmelzpunkt
1417
Mohs Härte
7
Übertragungsband
1,5-8 um
Dichte
2,329 g / cm 3
Elastizitätsmodul
130,91 GPa @ 40
Wärmeleitfähigkeit
1,63 W / cm / K
Spezifische Wärme
0,18 cal / g / K bei 25
Wärmeausdehnung
2,6 · 10 & supmin; & sup6; / ≤ @ 20


Spezifikationen:


Material:
Si
Maßtoleranz:
+ 0,0 / -0,1 mm
Dickentoleranz:
± 0,1 mm
Oberflächenqualität:
60/40
Clear Aperture:
& gt; 85%
Ebenheit:
λ / 2 @ 633 nm
Parallelität:
3'



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